공격 장치 활성화
5298 MT_A_MACHINE
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine)
MAX Lv : 5
습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3
계열 : 액티브
타입 : 원거리 물리
대상 : 대상 1체
회복 : AP 4
내용 : 시전 시 [장치 캡슐] 1개 소모.
대상에게 공격 장치를 날려 대상 및 그 주변 범위 내 적에게 원거리 물리 데미지를 4회 입힌다.
시전자의 베이스 레벨 및 POW에 따라 데미지가 추가로 증가되며, 시전자의 크리티컬 확률에 따라 크리티컬 데미지가 적용된다.
크리티컬 데미지의 경우 크리티컬 데미지 증가 옵션 총합의 절반만큼 적용된다.
ABR-인피니티를 소환중일 경우, [장치 캡슐]을 소모하지 않는다.
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[Lv 1] : 1회당 ATK 850% / 범위: 9x9셀
[Lv 2] : 1회당 ATK 1550% / 범위: 9x9셀
[Lv 3] : 1회당 ATK 2250% / 범위: 9x9셀
[Lv 4] : 1회당 ATK 2950% / 범위: 9x9셀
[Lv 5] : 1회당 ATK 3650% / 범위: 9x9셀
Max Level
5
SP Cost
63 ~ 69
Cast Time
1,5 sec
Cooldown
0,7 sec
Range
-
| Casting | Cooldown | |||
|---|---|---|---|---|
| Lv. | Fixed | Variable | Global | Skill |
| 1 | 0,5 sec | 1 sec | 0,5 sec | 0,7 sec |
| 2 | 0,5 sec | 1 sec | 0,5 sec | 0,7 sec |
| 3 | 0,5 sec | 1 sec | 0,5 sec | 0,7 sec |
| 4 | 0 sec | 0 sec | 0 sec | 0 sec |
| 5 | 0 sec | 0 sec | 0 sec | 0 sec |
No prerequisites.
No monster users found.
启动攻击装置
启动攻击装置
最高等级:5
习得条件:制造装置3、战斧践踏3
系列:主动
类型:Buff
对象:自己与队员
内容:消耗1个装置胶囊,持续时间内赋予我军攻击接近目标的装置。
每1秒给予附近范围内受效果影响的目标近距离物理伤害。
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[等级1]:效果范围3x3格/持续时间80秒
[等级2]:效果范围3x3格/持续时间120秒
[等级3]:效果范围5x5格/持续时间160秒
[等级4]:效果范围5x5格/持续时间200秒
[等级5]:效果范围7x7格/持续时间240秒
Activation Attack Machine
Activation Attack Machine
MAX Lv: 5
Skill Requirement: Manufacture Machine 3, Axe Stomp 3
Skill Form: Active
Type: Buff
Target: Self and party members
Description: Uses 1 Machine Capsule, summons the machine to the friendly target that attacks surrounding enemies.
Deals melee physical damage to surrounding enemies around the target every 1 second.
Damage is increased based on the target's base level.
However, the skill can't be used if the difference of base level between the target and the user exceeds 15 levels.
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[Level 1]: Area of effect: 3 x 3 cells / skill duration: 80 seconds.
[Level 2]: Area of effect: 3 x 3 cells / skill duration: 120 seconds.
[Level 3]: Area of effect: 5 x 5 cells / skill duration: 160 seconds.
[Level 4]: Area of effect: 5 x 5 cells / skill duration: 200 seconds.
[Level 5]: Area of effect: 7 x 7 cells / skill duration: 240 seconds.
MT_A_MACHINE
Activate Attack Device
Activate Attack Device
Max Lv.: 5
Learning Conditions: Manufacture Machine Lv. 3 and Axe Stomp Lv. 3
Class: Active
Type: Buff
Target: You and party members
Details: Consumes 1 Device Capsule. Add a device to an ally that temporarily attacks enemies around them.
This device inflicts Melee Physical damage every second.
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[Lv. 1]: Effective Range: 3 x3 cells, Duration: 80 sec.
[Lv. 2]: Effective Range: 3 x3 cells, Duration: 120 sec.
[Lv. 3]: Effective Range: 5 x5 cells, Duration: 160 sec.
[Lv. 4]: Effective Range: 5 x5 cells, Duration: 200 sec.
[Lv. 5]: Effective Range: 7 x7 cells, Duration: 240 sec.
攻撃装置有効化
攻撃装置有効化
MAX Lv : 5
習得条件 : 装置製造Lv 3、アックスストンプLv 3
系列 : アクティブスキル
使用条件 : デバイスカプセル消費 1個
射程 : 9セル
AP回復量 : 2
内容 : 対象と周辺 9 x 9セルの敵に遠距離物理ダメージを与える。自身のクリティカル率でクリティカル攻撃になる。なお、アイテムなどのクリティカル攻撃で与えるダメージ増減効果は 1/2で適用される。インフィニティ召喚中、デバイスカプセルを消費しない。このスキルは詠唱中に装備を変更すると、詠唱が中断される。
影響 : 対象者の「BaseLv」「Pow」
[Lv 1] 攻撃力 4800%
[Lv 2] 攻撃力 6300%
[Lv 3] 攻撃力 7800%
[Lv 4] 攻撃力 9300%
[Lv 5] 攻撃力 10800%
공격 장치 활성화
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine)
MAX Lv : 5
습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3
계열 : 액티브
타입 : 원거리 물리
대상 : 대상 1체
회복 : AP 4
내용 : 시전 시 [장치 캡슐] 1개 소모.
대상에게 공격 장치를 날려 대상 및 그 주변 범위 내 적에게 원거리 물리 데미지를 4회 입힌다.
시전자의 베이스 레벨 및 POW에 따라 데미지가 추가로 증가되며, 시전자의 크리티컬 확률에 따라 크리티컬 데미지가 적용된다.
크리티컬 데미지의 경우 크리티컬 데미지 증가 옵션 총합의 절반만큼 적용된다.
ABR-인피니티를 소환중일 경우, [장치 캡슐]을 소모하지 않는다.
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[Lv 1] : 1회당 ATK 850% / 범위: 9x9셀
[Lv 2] : 1회당 ATK 1550% / 범위: 9x9셀
[Lv 3] : 1회당 ATK 2250% / 범위: 9x9셀
[Lv 4] : 1회당 ATK 2950% / 범위: 9x9셀
[Lv 5] : 1회당 ATK 3650% / 범위: 9x9셀
공격 장치 활성화
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine)
MAX Lv : 5
습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3
계열 : 액티브
타입 : 버프
대상 : 자신 및 파티원
내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다.
해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다.
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[Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초
[Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초
[Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초
[Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초
[Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초
MT_A_MACHINE
MT_A_MACHINE
Ativar Robô Atacante
Ativar Robô Atacante
Nível máximo: 5
Pré-requisito: Criar Máquina 3,
Machado Esmagador 3
Tipo: Ativa
Descrição:
Acopla um Robô Atacante no usuário ou em
um personagem aliado para atacar inimigos
ao redor, causando dano físico corpo a
corpo a cada 1 segundo.
Consome 1 Cápsula Robótica.
Nível l Área l Duração
[Nv 1]: 3x3 células l 80 segundos
[Nv 2]: 3x3 células l 120 segundos
[Nv 3]: 5x5 células l 160 segundos
[Nv 4]: 5x5 células l 200 segundos
[Nv 5]: 7x7 células l 240 segundos
Activate Attack Device
Activate Attack Device
Max Lv.: 5
เงื่อนไข : Manufacture Machine Lv. 3, Axe Stomp Lv. 3
ประเภท : Active
Type: Buff
เป้าหมาย : ตัวเองและสมาชิกในปาร์ตี้
รายละเอียด : ใช้ Device Capsule 1 ea เพื่อติดตั้งอุปกรณ์สำหรับโจมตีเป้าหมายระยะใกล้ที่อยู่โดยรอบเป็นระยะเวลาที่กำหนดให้กับพันธมิตร
ศัตรูที่อยู่ภายในขอบเขตโดยรอบเป้าหมายที่ได้รับผลของสกิล จะได้รับ Damage ทางกายภาพระยะใกล้ทุก ๆ 1 วินาที
_
[Lv. 1]: ขอบเขต : 3 x3 ช่อง, ระยะเวลา : 80 วินาที
[Lv. 2]: ขอบเขต : 3 x3 ช่อง, ระยะเวลา : 120 วินาที
[Lv. 3]: ขอบเขต : 5 x5 ช่อง, ระยะเวลา : 160 วินาที
[Lv. 4]: ขอบเขต : 5 x5 ช่อง, ระยะเวลา : 200 วินาที
[Lv. 5]: ขอบเขต : 7 x7 ช่อง, ระยะเวลา : 240 วินาที
啟動攻擊裝置
啟動攻擊裝置
MAX Lv : 5
習得條件 : 製造裝置3、戰斧踏滅3
系列 : 主動
類形 : Buff
對象 : 自己
內容 : 消耗1個裝置膠囊,持續時間內賦予自身給予攻擊接近目標的裝置。
每1秒給予附近範圍內受效果影響的目標近距離物理傷害。
_
[LV 1] : 效果範圍: 3x3格/持續時間: 80秒
[LV 2] : 效果範圍: 3x3格/持續時間: 120秒
[LV 3] : 效果範圍: 5x5格/持續時間: 160秒
[LV 4] : 效果範圍: 5x5格/持續時間: 200秒
[LV 5] : 效果範圍: 7x7格/持續時間: 240秒
| Date | Field | Old | New | Server |
|---|---|---|---|---|
| 2026-03-18 07:09 | description | 공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 보조 대상 : 대상 1체 내용 : 시전 시 [장치 캡슐] 1개 소모. 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위 내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 해당 효과가 걸린 대상의 베이스 레벨에 비례해 데미지가 증가한다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 범위: 3x3셀 / 지속시간 80초 [Lv 2] : 범위: 3x3셀 / 지속시간 120초 [Lv 3] : 범위: 5x5셀 / 지속시간 160초 [Lv 4] : 범위: 5x5셀 / 지속시간 200초 [Lv 5] : 범위: 7x7셀 / 지속시간 240초 |
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 원거리 물리 대상 : 대상 1체 회복 : AP 4 내용 : 시전 시 [장치 캡슐] 1개 소모. 대상에게 공격 장치를 날려 대상 및 그 주변 범위 내 적에게 원거리 물리 데미지를 4회 입힌다. 시전자의 베이스 레벨 및 POW에 따라 데미지가 추가로 증가되며, 시전자의 크리티컬 확률에 따라 크리티컬 데미지가 적용된다. 크리티컬 데미지의 경우 크리티컬 데미지 증가 옵션 총합의 절반만큼 적용된다. ABR-인피니티를 소환중일 경우, [장치 캡슐]을 소모하지 않는다. _ [Lv 1] : 1회당 ATK 850% / 범위: 9x9셀 [Lv 2] : 1회당 ATK 1550% / 범위: 9x9셀 [Lv 3] : 1회당 ATK 2250% / 범위: 9x9셀 [Lv 4] : 1회당 ATK 2950% / 범위: 9x9셀 [Lv 5] : 1회당 ATK 3650% / 범위: 9x9셀 |
kROM Korean |
| 2025-09-03 06:03 | description | 공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 해당 효과가 걸린 대상의 베이스 레벨에 비례해 데미지가 증가한다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 보조 대상 : 대상 1체 내용 : 시전 시 [장치 캡슐] 1개 소모. 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위 내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 해당 효과가 걸린 대상의 베이스 레벨에 비례해 데미지가 증가한다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 범위: 3x3셀 / 지속시간 80초 [Lv 2] : 범위: 3x3셀 / 지속시간 120초 [Lv 3] : 범위: 5x5셀 / 지속시간 160초 [Lv 4] : 범위: 5x5셀 / 지속시간 200초 [Lv 5] : 범위: 7x7셀 / 지속시간 240초 |
kROM Korean |
| 2023-07-19 05:11 | description | 공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 해당 효과가 걸린 대상의 베이스 레벨에 비례해 데미지가 증가한다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
kROM Korean |
| 2023-04-05 05:11 | description | 공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. 단, 대상과 시전자의 베이스 레벨의 차이가 15레벨을 초과하는 경우 스킬을 사용할 수 없다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
kROM Korean |
| 2020-09-15 18:03 | description | 공격 장치 활성화(Activation Attack Machine) MAX Lv : 5 습득조건 : 장치 제조 3, 액스 스톰프 3 계열 : 액티브 타입 : 버프 대상 : 자신 및 파티원 내용 : 장치 캡슐 1개를 소모하여, 지속시간동안 주변에 접근하는 대상을 공격하는 장치를 아군에게 부여한다. 해당 효과가 걸린 대상의 주변 범위내 적에게 1초마다 근접 물리 데미지를 입힌다. _ [Lv 1] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 80초 [Lv 2] : 효과 범위 : 3 x 3셀/지속시간 : 120초 [Lv 3] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 160초 [Lv 4] : 효과 범위 : 5 x 5셀/지속시간 : 200초 [Lv 5] : 효과 범위 : 7 x 7셀/지속시간 : 240초 |
kROM Korean | |
| 2020-09-15 18:03 | name | 공격 장치 활성화 | kROM Korean | |
| 2020-09-15 18:03 | MaxLv | 5 | kROM Korean |